Sensitive-Micro switch

Applying the Micro-Nano integration techniques (Optical lithography and galvanic techniques) enable us to integrate the Nano scale structures (Nanowires) into Micro systems such as micro switches and micro sensors.
 The aim of applying the nanowires is to increase the efficiency of contacts between two electrodes and reducing the contact resistance.
The contact resistance is inversely proportional to the applied contact force, therefore the fabricated micro switches are characterized by applying μN-force on the contacts and the conductivity is investigated.

Sensitiv-Mikroschaltung (Herstellung von μN-Kontakten)

Die Anwendung der Mikro-Nano-Integration Techniken (optische Lithographie und galvanische Techniken) ermöglicht es uns, Strukturen im Nanobereich (Nanodrähte) in Mikro-Systeme wie Mikroschalter und Mikro-Sensoren zu integrieren.
  Das Ziel der Anwendung der Nanodrähte ist, die Effizienz von Kontakten zwischen zwei Elektroden durch Minderung des Übergangswiderstandes zu erhöhen.
Der Kontaktwiderstand ist umgekehrt proportional zu der angelegten Anpresskraft. daher werden die gefertigten Mikroschalter durch Anlegen einer extrem kleinen Kraft auf die Kontakte bezüglich ihre Leitfähigkeit untersucht.

Explanation of images:

up left: Schematic view of nanowire fabrication process, by optical lithography and nanogalvanik.

up right: the forest of Au nanowire.

Low left: Micro tube (diameter=200 µm) with inner deposited Au nanowires.