Die Forschung setzt auf die am Institut EMK vorhandenen Technologien UV-Tiefenlithographie, Galvanoformung und Polymer/Nanopartikel-Komposit-Herstellung auf. Dabei sollen die zur Verfügung stehenden Prozesse so optimiert und kombiniert werden, dass sie zur Realisierung einer möglichst preiswerten Mikrorelais-Matrix für Telekommunikationsanwendungen eingesetzt werden können.

Ziel der Arbeit ist es, eine funktionsfähige 4x4-Mikrorelais-Matrix aus MEMS-Relais zu konzipieren und entsprechende Labormuster zu realisieren. Um sowohl die dort zum Einsatz kommenden Aktoren als auch das gesamte Relais zu charakterisieren, wird parallel ein entsprechender Messplatz entwickelt  (MEMS-Analyzer).